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耀先活性炭吸附設備
活性炭吸附設備采用吸附法，系利用高性能活性碳吸附劑(adsorbent) 固體本身的表面作用力，將VOC分子之吸附質(adsorbate)吸引附著在吸附劑表面，以達到去除VOC物質之目的。活性碳吸附法在低濃度VOC條件下，可以理想地去除廢氣中揮發性有機物，同時有較佳的經濟效益。故在空氣污染物控制方面，特別適用處理含低濃度VOC 之廢氣，例如半導體廠、LCD廠、PCB廠與相關電子廠等。
活性炭吸附設備依照吸附劑與吸附物質間吸引力的不同，吸附法之機制包括有藉由物質間凡得瓦爾力作用之物理吸附及利用產生化學鍵結合之化學作用。其中物理作用為一可逆現象，常被用來由改變壓力或溫度破壞此平衡，以再生吸附劑并回收吸附物質，例如蒸氣再生、化學氧化再生、微波再生等；化學作用為高放熱反應且通常為不可逆反應。吸附劑的種類眾多，但以活性碳較常被采用，主要是因為活性碳對某些VOC之物理吸附效果良好、回收再生容易，而且價格便宜；至于其它吸附劑，如硅膠、硅藻土、活性氧化鋁或合成沸石，則對VOC之吸附選擇性較高，因此需配合廢氣污染物之特性，選用適合之吸附劑。
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